术语“栅格”和“分辨率”的混杂和彼此替换，对DSM（深亚微米）和亚波长半导体规划的出产、可靠性和制作，现已构成巨大的消极影响。
近来混杂两个天壤之别术语的趋势，对DSM（深亚微米）和亚波长半导体规划的出产、可靠性和制作，现已构成巨大的消极影响。关于结构规划数据库，混杂和交流术语“栅格”和“分辨率”成为趋势。
分辨率触及结构规划数据库存储的最小单元。对规范GDSII（图形规划体系II）流文件，米制规划的分辨率为0.001微米。相比照，栅格触及版面规划师布版进程中摆放方针的栅格最小斜度。栅格为分辨率的整数倍。此外，栅格巨细与制作规划掩模的最小化电子束点巨细成份额。在典型的130或90nm规划中，栅格典型为0.01微米——为分辨率的10倍。
大大都工艺流程规划规矩文档指定作业栅格，保证与掩模生成进程兼容。固有的数据库分辨率一般未指明，且假定为GDSII或OASIS数据库。制作进程流程假定数据出现在规划栅格的一切边际和高点。成果，信息传输到一切规划陈述都提及的MDP（掩模数据预备）阶段。
历史上，版面工程师和那些了解全套规划规矩的工程师开发了大大都制版东西。但现在
没有彻底理解栅格参数工程需求的软件开发者，开宣布许多可下载的结构技能文件。成果，大都定制印制板和IP（知识产权）规划技能文件设置栅格参数与0.001微米的分辨率参数共同。因为杰出的分辨率和安装了很多物体，重画和缩放时刻添加。这个添加当即影响了参数设置，降低了规划能力。
更凄惨的成果是当边际不在栅格上时，DRC失利（规划规矩查看）。查验和MDP程序将规划数据对齐到固有栅格，添加或削减印制板物体的宽度或距离。这个调整能够导致IC规划功用和作业的改动。
许多新式DFM（面向制作的规划）东西完成RET/OPC（分辨率增强技能/光学相位批改）使用，也假定栅格参数触及掩模制作工艺，且与数据库的分辨率不同。例如，DFM东西经过移动规划的边际和高点添加印制板距离。假如数据不在栅格——例如，栅格为0.01微米的整数倍，但器材坐落0.014微米——距离改动或许不善改动处理距离问题。此外，当给规划添加新角落走线或人工线时，它们坐落掩模栅格上。当规划没有坐落同一栅格上时，新OPC器材或许没有从现有结构延伸到全距离，或许没有在OPC器材和规划器材之间没有缺口。成果，这种景象极大地削减了OPC违背栅格数据的改善。
对DSM的安装和终究发布及亚波长规划，收拾IP，在MDP和RET相位规划前使其与掩模制作栅格兼容是重要的。IP的承认、定制模块和Pcell，有必要完整地依从实践掩模转化的数据库，而不仅是规划的作业数据。
