俄勒冈州威尔逊维尔，2016 年 3 月 11 日—Mentor Graphics公司（纳斯达克代码：MENT）今天宣告，与三星电子协作，为三星代工厂的10 纳米 FinFET 工艺供给各种规划、验证、测验东西及流程的优化。其间包含 Calibre® 物理验证套件、Mentor® Analog FastSPICE™ （AFS™） 渠道、Olympus-SoC™ 数字规划渠道和 Tessent® 测验产品套件。这些东西通过优化和认证，使体系芯片 （SoC） 规划工程师快速习惯三星代工厂先进的 10 纳米工艺，而且对第一次试产就能成功有极大决心。
规划风格和制作工艺之间的相互作用在 10 纳米会变得更为重要，因而可制作性规划 （DFM） 东西在验证流程中发挥关键作用。三星代工厂已对 Calibre YieldEnhancer 产品，特别是其 SmartFill 和 ECO/TIming-Aware Fill 功用进行认证，协助规划工程师在屡次更改规划的情况下，仍能满意制作工艺平整化要求，赶上交给制作期限。为了协助规划工程师发现和处理潜在的微影相关问题，三星支撑 Calibre LFD™ 东西的运用，该东西是根据 Mentor 的工艺process-window modeling、光罩组成、光学附近效应批改 （OPC） 和分辨率增强 （RET） 的量产制作计划。
因为规划团队可一起处理多个 DFM 元素，他们可运用建在 Calibre Yield Analyzer 东西上的三星 DFM 评分和剖析处理计划以简化决议计划权衡流程。最后为把制作成果快速反应到客户规划流程中，三星支撑运用 Calibre Pattern Matching 作为辨认形成低良率的图形并予以批改的处理计划。
在物理验证方面，Calibre nmDRC™ 渠道经认证可用于 10 纳米工艺，并成为三星研制、IP 验证和无晶圆厂客户规划交给的生态体系中规范的检验签核计划。此新闻稿的发布标志了三星运用 Calibre MulTI-Patterning 作为三重曝光和四重曝光的制作工艺在多年的协作后取得了成功。
三星代工厂已承认 Calibre xACT™ 可以在 10 纳米中供给高精度和高功用的寄生参数提取。Calibre xACT 东西运用集成的场求解器（field solver）来核算杂乱三维 FinFET 结构的寄生参数。它通过高度可扩展的平行处理办法进行功用优化。
其他认证则有助于 SoC 规划工程师进行电路验证、物理运用和 IC 测验。例如，AFS 渠道得到三星 10 纳米工艺组件模型和规划套件的认证。一起的客户运用 AFS，为模仿、射频、混合信号、存储器和全定制化数字电路的验证，供给比传统 SPICE 仿真器更快的纳米级的 SPICE 精确度。
Olympus-SoC 布局和布线渠道也已通过认证，可用于 10 纳米工艺，具有全面的上色规划办法，包含底层规划、布局、寄生参数抽取、布线和芯片完结要求。为了处理 FinFET 制作工艺中的特别应战，该渠道支撑 M1 三重曝光、色移（color shifTIng）、非一起布线通道、光罩和宽度依靠距离规矩以及其他新增功用。有多个一起客户正在运用该东西进行规划。
在测验方面，Mentor 和三星已打开协作，使 Tessent 测验产品套件可为新单元结构供给 10 纳米级更佳的测验质量，一起为更大规划的 10 纳米规划测验供给更高的测验图形压缩率从而操控本钱。两家公司还使用出产测验确诊来快速辨认和消除规划试产扩量阶段呈现的特定于规划和影响良率的单元特征。
“咱们与三星代工厂的协作远非仅仅是将这一先进的工艺带给咱们一起的客户，”Mentor Graphics Design to Silicon部分副总裁兼总经理Joe Sawicki说道，“该整合处理计划贯穿于规划验证、制作和测验中，为无晶圆公司和三星代工厂之间树立起了高度整合的桥梁。”
关于 Mentor Graphics
Mentor Graphics® 是电子规划自动化 （EDA） 范畴的技能领导者，为许多公司供给软件和硬件规划处理计划，协助其更快速且更具本钱效益地开宣布更超卓的电子和机械产品。Mentor Graphics供给了各种立异的产品和处理计划，协助工程师们处理规划难题，应对日益杂乱的电路板和芯片规划。Mentor Graphics 具有业界最丰厚的一流产品组合，也是仅有一家具有嵌入式软件处理计划的 EDA 公司。
