现在关于一些技能节点，规划人员需要在晶圆代工厂流片和检验之前进行光刻友爱规划(Litho Friendly Design) 查看。因为先进节点的解析度增进技能(RET) 约束，即便在契合规划规矩查看 (DRC) 的规划中，咱们仍看到了更多的制作问题。规划布局中制作特性较差的区域（即便应用了 RET 技能）所谓光刻热门，只要在规划验证流程中批改布局多边形才干纠正这些热门。
光刻热门批改应该满意两个条件：
首要，批改不能导致内部或许外部违背 DRC（例如，进行批改不应该彻底去除多边形，使其宽度小于最小的 DRC 宽度，兼并两个多边形或许使他们之间的距离小于最小的 DRC 距离。）
其次，批改有必要契合光刻友爱规划，也就是说不只要考虑批改热门，并且要保证不发生新的热门。
不过，移动布局边际来批改光刻热门，這些边际纷歧定是直接邻接热门。确认移动哪个布局边际来批改光刻热门的进程恰当杂乱，因为从规划布局到印出电路触及一连串改动原始布局形状的杂乱非线性进程（如 RET），本来布局图型改动及光学效应对布局特征的影响需列入考虑。鉴于批改光刻热门所需的布局批改有必要由规划人员进行，他们一般不熟悉这些流片后进程，显然在批改进程中，电子规划自动化 (EDA) 东西需要为规划人员供给一些协助。
在明导，咱们称之为根据模型的主张(MBH)。MBH 能够评价热门、确认有哪种批改挑选能够运用、进行模仿来确认這些批改主张也恪守所需的条件，然后为规划人员供给恰当的批改主张（图1）。一次批改或许包含单边移动或许多边移动，一个光刻热门或许存在不止一种可行的批改办法。此外，批改后的规划验证能够发现任何新的违背DRC最小线宽宽度或许距离的情况，可是它无法检测到被删去或许兼并的多边形，因而 MBH 体系有必要将这个常识整合进主张模型所供给的主张里。能够在一个主张里看到一切可行的批改挑选，使规划人员一起具有纠正热门所需的信息以及进行最适合其规划批改的灵活性。
有关 MBH 体系的另一个长处是他们能够拓宽，经过运用以原始方针层作为输入端的分化层，为运用两层或许三重图画微影制作的层中发现的光刻热门供给支撑主张。这使规划人员能够持续处理20nm和以下的光刻热门。事实上，咱们已经有许多客户在多个规划中运用光刻模仿和 MBH 流片20nm芯片，然后消除光刻热门。
当然，显而易见，任何生成这些主张的软件处理方案还需要精确和快速。
因为规划人员有必要承当越来越多的职责来保证规划能够经过日益杂乱的生产流程进行制作，EDA 软件有必要不断发展来添补这一常识距离。具有根据模型的主张才能的光刻友爱规划东西是 EDA 体系怎么成为规划和制作之间桥梁的一个比如。
