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IGBT晶体管基础知识

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    在技术讲解之前的。回答下列的重要问题,将有助于为特定的应用选择适当的IGBT。 非穿通(NPT)和穿通(

IGBT晶体管基础知识


    在技能解说之前的。答复下列的重要问题,将有助于为特定的运用挑选恰当的IGBT。 非穿通(NPT)和穿通(PT)器材之间的差异,以及术语和图表将稍后解说。


1. 什么是作业电压? IGBT的关断电压最高应不超越VCES的80%。



2. 这是硬或软开关?PT器材更合适于软开关,因其能够削减尾电流,可是,NPT器材将一向作业。


3.流过IGBT的电流都有什么?首先用简略的语言对用到的电流做一个大致的介绍。关于硬开关运用,频率—电流图很有用,可协助确认器材是否合适运用。在运用时需求考虑到数据表由于测验条件不同而存在的差异,怎么做到这一点稍后将有一个比如。关于软开关运用,可从IC2开端着手。


4.什么是抱负的开关速度?假如答案是“更高,更好”,那么PT器材是最好的挑选。相同,运用频率—电流图能够协助挑选硬开关运用的器材。


5.短路承受能力必要吗?关于运用如马达驱动器,答案是必定的,并且开关频率也往往是相对较低。这时将需求NPT器材。开关电源往往不需求短路耐受力。


IGBT概述


   一个N沟道IGBT根本上是一个N沟道功率MOSFET构建在p型衬底上,图1为一般的IGBT横截面。(PT IGBT有一个额定的N+层,并将加以解说。)因而,运用IGBT和运用功率MOSFET十分相似。从发射极到栅极之间加一个正的电压,使得电子从Body流向栅极。 假如门-发射极电压抵达或超越所谓的阈值电压,满足多的电子流向栅极跨过Body构成一个导电通道,答应电流从集电极流向发射极。(精确地说,它使得电子从发射极流向集电极。)这种电子流招引阳离子或空穴从p型衬底经漂移区抵达集电极。如图2所示,为IGBT的简化等效电路图。
                                     
图1:N沟道IGBT的横截面。
                                   
                                     
 图2:IGBT的简化等效电路图。



    图2的左面电路图为一个N沟道功率MOSFET驱动一个大衬底PNP双极晶体管,为达林顿衔接。右边电路图简略地显现了一个N沟道功率MOSFET在漏极串联二极管的景象。乍看之下,好像IGBT两头的开态电压比一个N沟道功率MOSFET自身两头的开态电压高一个二极管的压降。这是真实的现实,即IGBT两头的开态电压始终是至少有一个二极管压降。 可是,比较功率MOSFET,在相同的裸片尺度下,作业在相同的温度和电流的状况下,IGBT能够显着下降开态电压。原因是,MOSFET仅仅是多子(大都载流子)器材。 换言之,在N沟道 MOSFET中,只要电子在活动。 如前所述,N沟道IGBT的p型衬底会将空穴注入到漂移区。因而,IGBT的电流里既有电子又有空穴。这种空穴(少子)的注入大大削减了漂移区的等效电阻。还有阐明,空穴注入大大增加了电导率,或导电性被调制。由此削减了开态电压是IGBT比较功率MOSFET的首要优势。
    当然,世界上没有免费的午饭,较低的开态电压的价值是开关速度变慢,特别是在封闭时。 原因是,在关断时,电子流能够忽然中止,就跟在功率MOSFET中一样,经过下降栅极和发射极之间的电压使其低于阈值电压。可是,空穴依然留在漂移区,除了电压梯度和中和没有办法移除它们。IGBT在封闭期间的尾电流一向要继续到一切的空穴被中和或被调制。调制率是能够操控的,这是图1中N +缓冲层的效果。 这种缓冲层在封闭期间敏捷吸收捕获的空穴。 并非一切的IGBT归入一个n+缓冲层; 那些被称为穿通型(PT)的有,那些被称为非穿通型(NPT)的没有。 PT IGBTs 有时被称为不对称的,NPT是对称的。


    其他的较低的开态电压的价值是,假如IGBT的运作超出标准的规模,那么会存在闩锁的或许。闭锁是IGBT的一种失效形式既IGBT再也不能被栅极封闭。任何对IGBT的误用都将诱发闭锁。 因而,IGBT的闭锁失效机理需求一些解说。


根本结构


    IGBT的根本结构和晶闸管相似,即一系列PNPN结。 这能够经过剖析更具体的IGBT等效电路模型来解说,如图3所示。


                                    
图3:IGBT的寄生晶闸管模型。


    一切的N通道功率MOSFET都存在寄生NPN双极型晶体管,因而一切N3channel的IGBT也都存在。寄生NPN晶体管的基极是体区域,基极和发射极短接以防止晶体管敞开。 可是请注意,体区域存在电阻,既体分散电阻(body region spreading resistance),如图3所示。 P型衬底,漂移区和体区域组成了IGBT的PNP部分。该PNPN结构构成了寄生晶闸管。 假如寄生NPN晶体管敞开并且NPN和PNP晶体管的增益和大于1,闭锁就发作了。 闭锁是经过优化IGBT的掺杂水平缓规划不同区域的尺度来防止的,如图1所示。


    能够设定NPN和PNP晶体管的增益,使他们的总和不到1。 跟着温度的升高,NPN和PNP晶体管的增益增大,体分散电阻也增大。十分高的集电极电流可在体区域引起满足的电压降使得寄生NPN晶体管敞开,芯片的部分过热使寄生晶体管的增益升高,这样他们的收益总和就超越1。假如发作这种状况,寄生晶闸管就开端进入闩锁状况,并且IGBT无法被栅极封闭,且或许由于电流过大被焚毁。这是静态闭锁。高dv/dt封闭进程加上过度的集电极电流也能够显著地进步增益和敞开寄生NPN晶体管。这是动态闭锁,这实际上约束了安全作业区,由于它或许会在比静态闭锁低得多的集电极电流下发作闭锁,这取决于关断时的dv / dt。经过在答应的最大电流和安全作业区内作业,能够防止静态和动态闭锁,且不必考虑dv / dt的问题。请注意,敞开和封闭状况下的dv / dt,过冲(overshoot)和震动(ringing)可由外部闸电阻设定(以及在电路布局上的杂散电感)。


 

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