智能汽车将推动CMOS图像传感器和传感器晶圆需求的持续增长-移动终端产品中的电子元器件应用日益增长,受此驱动,半导体行业正面临着一个新的时代,在这个新时代,工艺节点缩小和成本降低将不再延续过去几十年来的摩尔定律发展。先进的工艺节点不再提供预期的成本效益,新光刻解决方案和10 nm以下节点器件的研发投入正在大幅增加。为了满足市场需求,业界正在寻求有效的技术解决方案来弥补差距,改善成本和性能,同时通过集成增加更多的功能。
在芯片的生产过程中,会经历许多次的掺杂、增层、光刻和热处理等工艺制程,每一步都必须达到极其苛刻的物理特性要求。但是,即使是最成熟的工艺制程也存在不同位置之间、不同晶圆之间、不同工艺运行之间以及不同时段
在半导体制造过程中,合格率影响成本,因此制造商从晶圆到包装IC多步骤进行产品检测,以尽早发现缺陷。随着光刻技术几何尺寸越来越小,要求检测系统能够检测深度不断增加的深亚微米尺度(如,45nm、32nm、
20nm工艺节点是电子产业的转折点。它带来巨大的动力、性能和面积优势,同时带来了光刻技术、可变性和复杂性等挑战。然而令人欣慰的是,通过在端到端、集成设计流程中使用EDA工具,这些挑战都是在人们的掌控范