EDA工业应战SoC规划迎来新革新

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SoC已经一跃成为芯片设计业界的主流趋势,而产品价值与竞争力则完全取决于复杂度、设计的可再用性,以及制程的良率。随着新一代4G智能手机与连网

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Intel-镁光发布25nm NAND细节 选用Airgap技能

在本月6日至8日举办的IEDM2010旧金山大会上,Intel与镁光两家公司合作展示了其25nm NAND制程的细节,有趣的是,这种制程竟然会是首款将曾被IBM热捧的AirG

为芯片节能 五种下降未来IC功耗的技能

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功耗过高已经成为半导体制程尺寸进一步微缩的主要障碍,并且严重威胁到所有电子领域的一切进展──从推动行动设备更加微型化到开发超级电脑均

旺宏75纳米NOR Flash第4季量产

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据港台媒体报道,全球非挥发性内存领导厂商旺宏电子宣布,由于制程技术研发成果顺利,其生产制造的NOR型闪存(NOR Flash Memory),将跳过90纳米制程,

Linux下NAND FLASH驱动开发

但是由于物理制程 / 制造方面的原因,导致 nor 和 nand 在一些具体操作方面的特性不同: 表1:Nand Flash 和 Nor Flash 的区别 1. 理论上是可以的,而且

支撑嵌入式核算的根据英特尔酷睿 i7、i5 和 i3 处理器的渠道

产品概述基于 32 纳米制程技术的英特尔reg;酷睿trade; i7、英特尔reg;酷睿trade; i5 和英特尔reg;酷睿trade; i3 处理器采用行业标准的 x86 架构,拥有智能性能

FPGA与DDR3 SDRAM的接口规划

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DDR3 SDRAM内存的总线速率达到600 Mbps to 1.6 Gbps (300 to 800 MHz),1.5V的低功耗工作电压,采用90nm制程达到2Gbits的高密度。这个架构毫无疑问更

一文看懂3D晶体管

随着半导体制程工艺的发展,硅晶体管的局限逐渐被显现出来,为了摩尔定律继续生效,业界推出了3D晶体管的的定义,而谈到3D晶体管,就不能不谈Intel的Tri-Gate晶体管和台积电的FinFET制程

LED封装过程中,怎么做好防硫办法

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在LED封装制程中,硫化现象主要发生在固晶和点胶封装工序,发生硫化的主要是含银的材料(镀银支架和导电银胶)和硅性胶材料。含银材料被

封装技能是左右LED光源发光功率的要害特性

随著LED照明应用对于元件输出要求渐增,传统LED封装不仅限制元件规格推进,也不利散热,新颖的无封装LED具备更好的散热条件,同时集成磊晶、晶粒与封装制程,可更便利地搭配二次光学设计照明灯具…LED光

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