半导体制造去除氧化层的方法-理想的清洗工艺是应用那些完全安全、易于并比较经济地进行处理的化学品，并且在室温下进行，这种工艺并不存在。然而，关于室温下化学反应的研究正在进行。其中一种是将臭氧与另外两种浓度的氢氟酸溶液在室温下注入盛有超纯净水的清洗池。兆赫兹超声波作为辅助以提高清洗的有效性。