“TSMC现在已有三座12英寸晶圆厂，下一步会是18英寸厂。从时刻上来看，18英寸晶圆真实投入生产应该在2016年之后。”TSMC我国事务开展副总经理罗镇球称。
现在有三家公司（英特尔、TSMC、三星）出资ASML光刻设备的方案，由于在进入18英寸时会有许多的坎要过，包括设备、光学等。
现在看来10纳米的光刻工艺基本上只要两种挑选，一个是EUV深紫外光，一个是Immersion滋润式光刻技能。Immersion技能是TSMC的研制人员开端研制的。事实上，无论是走到EUV，仍是Immersion，整个本钱开销跟批量生产的才能都还有许多困难要战胜。
在工艺的开展上有物理上的极限，咱们想把技能做到物理的极限。然而在工业全体来看, 咱们面临的不仅仅是物理的极限，还有经济上的极限和功耗的极限。
那么，摩尔定律还能撑多久？实际上，摩尔定律是个比较概念性的说法。现在TSMC的研制人员已经在研讨7纳米。“摩尔定律有许多坎要走，或许也不会像曩昔说18个月翻番，他或许会变成20个月、24个月。但是这个概念一向仍是往下走。咱们看到7纳米是能够做到的。”罗镇球说。
不仅在工艺方面，在资料和器材结构方面也在演进。例如TSMC进入28nm时，就开端选用高K-金属栅极（HKMG）等资料；TSMC进入16nm时，将开端选用FinFET 3D晶体管制作技能。
未来进入10nm、7nm时怎样做，怎样进入18英寸？三个大联盟成员（TSMC、英特尔和三星）或许各有各的思路。
