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CMOS集成电路规划中如安在物理层上完成电阻的规划

CMOS集成电路设计中如何在物理层上实现电阻的设计-在集成电路的设计中,电阻器不是主要的器件,却是必不可少的。如果设计不当,会对整个 电路有很大的影响,并且会使芯片的面积很大,从而增加成本。

集成电路的规划中,电阻器不是首要的器材,却是必不可少的。假如规划不妥,会对整个 电路有很大的影响,而且会使芯片的面积很大,然后添加本钱。

现在,在规划中运用的首要有3种电阻器:多晶硅、MOS管以及电容电阻。在规划中,要依据需求灵活运用这3种电阻,使芯片的规划到达最优。

1、多晶硅电阻

集成电路中的单片电阻器间隔抱负电阻都比较远,在规范的MOS工艺中,最抱负的无源电阻器是多晶硅条。一个均匀的平板电阻能够标明为:

式中:ρ为电阻率;t为薄板厚度;R□=(ρ/t)?为薄层电阻率,单位为Ω/□;L/W为长宽比。因为常用的薄层电阻很小,一般多晶硅最大的电阻率为100 Ω/□,而规划规则又确认了多晶硅条宽度的最小值,因而高值的电阻需求很大的尺度,因为芯片面积的约束,实践上是很难完成的。当然也能够用分散条来做薄层电阻,可是因为工艺的不稳定性,一般很简略受温度和电压的影响,很难精确操控其肯定数值。寄生作用也非常显着。

不管多晶硅仍是分散层,他们的电阻的改变规模都很大,与注入材猜中的杂质浓度有关。不 简略核算精确值。因为上述原因,在集成电路中常常运用有源电阻器。

CMOS集成电路规划中如安在物理层上完成电阻的规划

2、MOS管电阻

MOS管为三端器材,恰当衔接这三个端,MOS管就变成两头的有源电阻。这种电阻器首要原理 是运用晶体管在必定偏置下的等效电阻。能够替代多晶硅或分散电阻,以供给直流电压降,或在小规模内呈线性的小信号沟通电阻。在大多数的状况下,取得小信号电阻所需求的面积比直线性重要得多。一个MOS器材便是一个模仿电阻,与等价的多晶硅或跨三电阻比较,其尺度要小得多。

简略地把n沟道或p沟道增强性MOS管的栅极接到漏极上就得到了相似MOS晶体管的有源电阻。关于n沟道器材,应该尽或许地把源极接到最负的电源电压上,这样能够消除衬底的影响。相同p沟道器材源极应该接到最正的电源电压上。此刻,VGS=VDS,如图1(a),(b)所示。

图1(a)的MOS晶体管偏置在线性区作业,图2所示为有源电阻跨导曲线ID-VG S的大信号特性。这一曲线对n沟道、p沟道增强型器材都适用。能够看出,电阻为非线性的。可是在实践中,因为信号摇摆的起伏很小,所以实践上这种电阻能够很好地作业。依据公式

其间:K′=μ0C0X。能够看出,假如VDS《(VGS-VT),则ID与VDS之间关系为直线性(假定VGS与VDS无关,由此发生一个等效电阻R=KL/W,K=1/[μ0C0X(VGS-VT)],μ0为载流子的表面迁移率,C0X为栅沟电容密度;K值一般在1 000~3 00 0Ω/□。试验证明,在VDS《0.5(VGS-V T)时,近似状况是非常杰出的。

图1(c),(d)尽管能够改善电阻率的线性,可是献身了面积添加了复杂度。

用有源电阻得到大的直流电压需求大的电流,或许远小于1的W/L比值。能够选用级连的办法战胜这一问题行将每一级的G,D与上一级的S相连。这样能够使W/L接近于1且运用较小的直流电流。

在规划中有时要用到沟通电阻,这时其直流电流应为零。图1所示的有源电阻不能满意此条 件,因为这时要求其阻值为无穷大。明显这是不或许的。这时能够运用MOS管的开关特性来完成,如图3(a)所示。MOS开关的特性近似为直线,没有直流失调。这时经过操控栅源之间的电压值就能够得到ΔV为1 V的线性沟通电阻。

为了尽或许夸张线性区并抵消体效应,电阻往往以差动办法成对呈现,如图3(b)所示的一 对差动结构的沟通电阻。留意,加到电阻器左面的是差动信号(V1);右边则处于相同电位。

3、电容电阻

沟通电阻还能够选用开关和电容器来完成。经历标明,假如时钟频率足够高,开关和电容的组合就能够当作电阻来运用。其阻值取决于时钟频率和电容值。

图4是一种电阻模仿办法,称为“并联开关电容结构”。在特定的条件下,依照采样系统理论,能够近似为图4(b)所示的电阻。其间V1和V2为两个独立的直流电压源,其依照足够高的速率采样,在周期内的改变可疏忽不计。经过核算可得:

其间,fc=1/T是信号Φ1和Φ2的频率。

这种办法能够在面积很小的硅片上得到很大的电阻。例如,设电容器为多晶硅多晶硅型,时钟频率100 kHz,要求完成1 MΩ的电阻,求其面积。依据式(3)可知电容为10 pF。假定单位面积的电容为0.2 pF/mil2,则面积为50 mil2。假如用多晶硅,取最大或许值100 Ω,并取其最小宽度,那么需求900 mil2。当然在开关电容电阻中除了电容面积外还需求两个面积极小的MOS管做开关。能够看出,电容电阻比多晶硅电阻的面积少了许多。而在集成电路规划中这是非常重要的,尽管添加了2个MOS管,但与所削减的面积比较是可疏忽的。实践上所节约的面积远不止此,因为多晶硅条的电阻率很难到达100 Ω/□。当然,运用电容完成电阻还有其他的办法,在此不再赘述。

4、结语

本文会集评论了怎样在物理层上完成电阻。实践上,MOS工艺在这方面供给了不少便利。这些电阻器能够与其他的元器材一同运用。运用开关和电容模仿电阻,能够减轻漏极电流受漏—源电压的影响。关于电容电阻器,因为其电阻值与电容巨细成反比,因而有用的RC时间常数就与电容之比成正比,然后能够用电容和开关电容电阻精确的完成电路中要求的时间常数;而运用有源器材的电阻,能够使电阻尺度最小。多晶硅电阻则是最简略的。在规划中要灵活运用这三种不同的办法。

责任编辑:gt

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