OLED|0″>OLED工业化进程
1．全球展开概略
OLED的工业化现已起步，往后的3～5年是展开的要害时期。尽管OLED技能起源于欧美，但因为本钱和工业链的联系，终究完成大规模工业化的国家和地区却会集在东亚，主要是日本、韩国、我国大陆和台湾。
现在，日本Pioneer有3条出产线，其间2条PM-OLED线、1条AM-OLED线，月产能120万片。三星SDI的OLED月产量为150万片，并方案建成AM-OLED（370×470）专用出产线。我国台湾的铼宝现有7条出产线，本年方案再引入2条线，月产能130万片，铼宝OLED本年出货方针为1200万～1500万片。 除了以上3家外，LG电子、韩国大宇、CPT和联宗光电等公司都在活泼出资建造OLED出产线，期望提前进入OLED商场。
2．我国展开概略
(1)效果显着
在曩昔的几年里，我国在OLED机理研讨和器材结构规划等方面做了许多作业，现在从事OLED研制和工业化的组织及企业主要有：清华大学、华南理工大学、吉林大学、上海大学、东南大学、香港城市大学、香港科技大学、长春色机所、中科院化学所、北京维信诺科技有限公司、信利半导体、上海航天上大欧德公司、上海广电电子集团、深圳先科集团、TCL、五粮液集团、我国普天集团等。
清华大学于1996年景立了OLED项目组，规划安装了我国大陆第一台OLED蒸镀设备，建成了我国大陆第一个OLED超净实验室（见图5）。2001年，因为获得原国家计委的支撑，清华大学及其他单位合资成立了北京维信诺科技有限公司，建成了我国大陆第一条OLED中试出产线(见图6)，2003年开端有小批量单色产品进入商场的仪器仪表范畴，成为我国大陆第一家可以出产和出售自产OLED产品的公司，产品获得多家客户的认可。2002年，维信诺与清华大学成立了联合实验室，一起开发有机发光显现技能。到2005年3月，维信诺科技联合清华大学有机光电联合实验室一起申请了46项专利，其间有8项世界专利，内容掩盖资料、器材结构、器材工艺和驱动电路等技能范畴，至今，已有20项专利获得授权，具有十多项中心专利技能。此外，在中试出产线上，维信诺科技打破并把握了批量出产的要害技能，丰厚和堆集了许多OLED量产工艺及技能Know-how，完善了技能效果向工业化的充沛转化。
图1北京维信诺科技有限公司研制出的OLED软屏
清华大学和维信诺公司先后承当了国家计委、国家发改委、科技部“863”方案、信息工业部和北京市科委等多个严重要点立异项目，开宣布高清晰度26万色96×64、128×160全彩OLED和单色128×64柔软点阵OLED显现屏样品，研讨效果到达世界先进水平。现在，维信诺公司正在进行OLED大规模出产线的准备，估量2006年建成投产第一条PM OLED出产线。
上海大学于1990年开端OLED的研讨作业，已研制出白色发光器材和绿色矩阵显现器材。绿色器材的半亮度寿数已到达14000小时，赤色器材半亮度寿数为7500小时，蓝色器材半亮度寿数为1016小时，白色器材半亮度寿数大于2000小时。上海大学与我国航天科工集团公司于2001年9月联合组建了“上海航天上大欧德科技有限公司”，以进行OLED的中试研讨和批量出产。
吉林大学从1994年开端在新式OLED资料开发及功能研讨方面展开了深化体系的研讨作业，在新式电致发光协作物资料方面获得了一些有立异性的效果，尤其在蓝光协作物资料方面获得了一些打破,还研制出96×64像素、分辨率为3条线/毫米的有机发光显现屏。
图2柯达推出的全球第一款OLED屏数码相机
在TFT技能方面，吉林省彩晶数码高科显现器有限公司现在已具有制造供大面积平板显现器运用的非晶硅TFT技能和设备，其成品率可以到达80%以上，为我国展开低温多晶硅TFT-OLED的研讨打下了良好基础。
中科院长春色机与物理地点稀土发光资料的研讨方面获得严重开展， 1996年展开非晶硅TFT 器材研讨作业，1999年开端进行多晶硅TFT驱动技能的研讨作业并获得开端效果。
图3Sony MZ-RH10 MD，这是MD中第一次选用5行OLED屏幕
华中科技大学从20世纪80年代末开端展开非晶硅TFT有源矩阵液晶显现器的研讨，在非晶硅、多晶硅薄膜和TFT的研讨与制备、LCD|0″>AM LCD和多晶硅TFT集成一体化技能方面，具有了良好基础。
成都电子科技大学经过多年来的科研作业，在资料、器材和低温多晶硅TFT等方面获得了必定开展。
南开大学与香港科技大学协作，于上一年获得了一项国家自然科学基金委联合探究研讨多晶硅TFT-OLED的项目，现已就TFT驱动单元的新式结构和矩阵特性进行从多晶硅TFT物理模型的树立到模拟计算和仿真的研讨作业。
图4 2005年1月三星推出了21英寸OLED面板
北方交通大学在多年研讨无机电致发光的基础上，在有机/无机复合发光器材的研讨方面获得了一些立异性效果。 华南理工大学在高分子资料制备方面获得了显着开展，组成出了红绿蓝三基色高分子荧光资料，红光资料的点致发光（EL）功率到达2.5%。 别的，中科院化学所、长春应化所、华东理工大学在新式小分子发光资料和高分子发光资料方面进行了许多的研讨，并获得了一些重要的研讨效果。
图5我国大陆第一个OLED超净实验室
在工业化方面，信利半导体2003年引入了一条小批量OLED出产线，现在正在进行产品及商场方面的开发，信利方案本年年底开端引入大规模出产线，下一年10月份投产。
（2）技能距离及原因剖析
现在我国OLED的技能和工业化全体水平与国外仍有两年左右的距离，可是在部分中心技能上现已具有世界先进水平，获得了必定的研讨效果。
例如，在器材结构方面，我国开发的单层结构器材打破了传统的双层和多层结构专利技能，削减资料、设备和工艺进程，大大降低了本钱；在资料方面，吉林大学在世界范围内首先展开了三线态磷光资料的功能研讨，维信诺和清华大学联合开发的具有自主知识产权的红光资料在发动电压为2.4V时，最高亮度到达7280cd/m2，而国外的红光资料在发动电压为3.5V时，最高亮度只能到达4300cd/m2；在OLED的五颜六色化方面，我国也现已开宣布高清晰度26万色全彩OLED样品，追上了世界水平；在大尺度显现屏开发方面，国外现已开宣布24.2英寸的小分子OLED样品和40英寸的高分子OLED样品，可是大尺度技能还不老练，寿数和成品率问题估量还需5～10年的时刻才干处理。
图6我国大陆第一个OLED中试线
但同世界前沿有机发光显现技能比较，我国还存在一些显着的技能距离，其突出表现为：有机发光红绿蓝三色资料处理方案不完善，无法供给具有实用性的蓝光发光资料，磷光资料的红绿蓝三色实用化资料还没有开发成功。我国有机发光显现资料的研制和出产脱节，研制组织有许多，可是OLED资料的出产厂商却很少，更短少有机发光显现资料的下流厂商，资料评价和工业化有妨碍。与国外比较，我国有机发光显现资料方面具有的知识产权较少，需求加速研制发展。在驱动IC方面，全球现已有多家公司在从事OLED驱动IC的规划和出产，而我国只能从国外引入驱动%&&&&&%；在大尺度和彩屏技能上，因为设备条件相对落后，资金投入相对缺少，现在还同国外展开有很大距离。这些环节上存在的缺少，都必定程度地限制了我国有机发光技能的展开。
（3）工业距离及原因剖析
现在，我国只要两条OLED中试线，推出了单色OLED产品。而国外现已有OLED出产线十几条，推出了64K色、多色和单色OLED产品。 有机发光显现ITO玻璃国产化方面，现在国内还没有一家可以出产契合用于OLED出产的ITO玻璃。北京维信诺公司正在与国内一些厂家联合攻关，力求赶快完成ITO玻璃的国产化。除此之外，光刻胶等原资料也都存在相似的问题。
在出产设备方面，我国尽管有OLED出产设备的制造厂商，可是OLED的要害出产设备技能把握在日本、韩国手中，我国只要经过进口才干得到。
在出产方面，因为我国TFT展开滞后，面板的制备技能单薄，出产管理经验堆集缺少，因此在AM OLED的出产工艺开发方面难度较大，一起也缺少OLED出产管理人才，这是我国OLED工业化建造的缺点。
总归，我国OLED上下流工业链尚不齐备，OLED技能自身还没有彻底老练，与国外的距离没有TFT-LCD和PDP大。国内正在研制OLED的单位较多，有多条完好的试验线，但研制内容重复较多，差异性小，还没有构成特征；已有小尺度五颜六色无源样品开发技能，正在开发单色小尺度产品出产技能，有源技能难度较大；原资料的开发较活泼，但还没有筛选出归纳功能较好的资料；OLED高素质的技能和管理人才紧缺，存在政府和企业对OLED的资金投入不行等,这些都限制了我国OLED工业化的开展。
