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多晶硅光电池

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p-Si(多晶硅,包括微晶)光电池没有光致衰退效应,材料质量有所下降时也不会导致光电

多晶硅光电池



p-Si(多晶硅,包含微晶)光电池没有光致阑珊效应,资料质量有所下降时也不会导致光电池受影响,是世界上正掀起的前沿性研讨抢手。在单晶硅衬底上用液相外延制备的p-Si光电池转 换功率为15.3%,经减薄衬底,加强陷光等加工,可进步到23.7%,用CVD法制备的转化功率约为 12.6-17.3%。选用廉价衬底的p-Si薄膜成长办法有PECVD和热丝法,或对a-Si:H资料膜进行后退火,到达低温固相晶化,可别离制出功率9.8%和9.2%的无退化电池。微晶硅薄膜成长与a-Si工艺相容,光电功能和安稳性很高,研讨遭到很大注重,但功率仅为7.7%。大面积低温p-Si膜与-Si组成叠层电池结构,是进步a-S光电池安稳性和转化功率的重要途径,可更充分利用太阳光谱,理论核算标明其功率可在28%以上,将使硅基薄膜光电池功能发生突破性开展。铜铟硒光电池
  CIS(铜铟硒)薄膜光电池已成为世界光伏界研讨开发的抢手课题,它具有转化功率高(已到达17.7%),功能安稳,制作成本低的特色。CIS光电池一般是在玻璃或其它廉价衬底上别离堆积多层膜而构成的,厚度可做到2?3μm,吸收层CIS膜对电池功能起着决定性效果。现已开宣布反响共蒸法和硒化法(溅射、蒸腾、电堆积等)两大类多种制备办法,其它外层一般选用真空蒸腾或 溅射成膜。阻止其开展的原因是工艺重复性差,高效电池成品率低,资料组分较杂乱,缺少操控薄膜成长的分析仪器。CIS光电池正遭到产业界注重,一些闻名公司意识到它在未来动力商场中的远景和所在位置,活跃扩展开发规划,着手组成中试线及制作厂。

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