Mentor, a Siemens business 旗下抢先的 Calibre™ nmPlatform 和 Analog FastSPICE (AFS) 定制和模仿/混合信号 (AMS) 电路验证渠道现已契合三星Foundry最新的5/4 nm FinFET工艺技能要求，客户可以运用最新的处理方案为其先进的IC 规划tapeouts进行验证和sign-off。
三星5nm FinFET 工艺在功耗、功用和面积 (PPA) 方面体现优异，其自身具有的增强功用，结合愈加精密的5nm 几许尺度，可以取得比前几代工艺节点更为超卓的功用提高。
三星电子规划支撑团队副总裁 Jongwook Kye 表明：“三星与 Mentor 的协作由来已久，咱们的一起客户可以以此充沛运用Calibre 处理方案的各种功用。现在，Calibre 和 AFS 都已经过最新的三星Foundry的工艺认证，两边的专业知识再次结合，协助规划人员快速开发和验证立异式 IC，以应对各种高速添加的商场和使用需求。”
除 Calibre nmDRC 之外，一起经过三星Foundry的最新工艺认证的Mentor 东西还包含：
● Calibre™ xACT – 该东西可以处理与先进纳米规划相关的技能应战，包含多重曝光、FinFET、部分互连、高杂乱性和更苛刻的约束条件。其一起的混合引擎供给了场求解器的高精度，这关于FinFET 这类的精密3D 结构而言至关重要，此外Calibre xACT还供给快速的吞吐能力，可敏捷完满意芯片规划。
● Calibre™ YieldEnhancer – 具有 SmartFill 和ECO Fill 功用，客户可以操控规划平面度，并削减屡次规划迭代的周转时刻。Calibre YieldEnhancer 还可以经过主动 PowerVia 流程削减 IR 压降，然后协助客户提高规划的可靠性。三星与 Mentor 协作定制了该作业流程，为其抢先的制程技能供给最高数量的过孔加插。
● Calibre™ PERC – 该东西选用一起集成的办法对物理地图和网表进行剖析，进而将杂乱的可靠性验证查看主动化。支撑5/4nm 工艺的三星Foundry Calibre PERC 规划东西套件可以供给额定的验证查看功用，协助客户应对与静电放电和闩锁效应可靠性相关的应战。
● Calibre™ nmLVS 可以作为任何三星Foundry提取流程的前端。Calibre nmLVS致力于处理持续添加的布局杂乱性，并满意规划团队的高档核算需求，助其在验证杂乱电路的一起，以预期的运转时刻完结先进工艺节点规划。
● Calibre™ RealTime 数字和定制接口渠道 – 该渠道使用相同经过三星Foundry认证批量Calibre的规划套件，在数字化和定制的规划流程中即时进行sign-off质量的DRC查看。在先进和成熟节点规划的 DRC 收敛期间，这些接口可带来明显的生产率优势，协助客户快速优化其手动的DRC 修正，然后能愈加专心于其PPA方针。
● AFS渠道，该渠道助力芯片级体系 (SoC) 规划人员充满信心地完结电路验证。三星Foundry的器材模型和规划东西套件均支撑AFS 渠道。两边的一起客户可以以此在验证模仿、射频、混合信号、存储器和定制数字电路上，完结比传统 SPICE 仿真器速度更快的纳米级 SPICE 精度验证。
“三星Foundry凭仗最新工艺，不断供给高度立异的技能，以应对日趋杂乱的 IC 规划难题，”Mentor Calibre 规划处理方案产品办理副总裁 Michael Buehler-Garcia 表明：“咱们很快乐能与三星Foundry持续深化协作，并作为其立异处理方案中的要害规划要素，协助两边的一起客户规划和制作最先进的IC产品。”
